美国aBeam Technologies提供多种产品来改进半导体制造和纳米制造。我们的产品用于模拟和优化纳米光刻、计量、掩模和缺陷检测。它们还用于半导体设备的设计和优化。此外，该公司还销售电子束图案发生器，并提供顶级纳米制造。我们的客户是半导体工厂、设备制造商以及研发实验室和大学。aBeam Technologies总部位于美国加利福尼亚州。半导体设备价格昂贵。有机会提高工具质量、提高过程质量或为下一代延长其生命周期，使我们的软件获得了更大的回报。
aBeam Technologies的研究人员与劳伦斯伯克利国家实验室和阿贡国家实验室合作，开发了一种制造线宽降至1.5纳米的测试图案的技术。设计的图案包含数千条线条，线条宽度准确设计；这些线以这样一种方式组合，即线宽的分布在任何位置看起来都是随机的。这种伪随机测试模式允许在纳米气象系统的整个动态范围内对其进行表征。
ABeam Technologies主要产品：
软件
模式生成器
光学平台
光束消隐器
光子集成器
主要型号：
TRAVIT EBL、DISPLACE、TEMPTATION、SCATT、TRAVIT Dry Etch、XeDraw、XPG-2、XENOS XeMove、XeSwitch
津公网安备12010102000950号