XENOS XeMove载物台使用先进的激光测量系统和超声波压电驱动技术,结合我们的光刻系统(测量分辨率为10nm),可获得优于100nm的缝合和覆盖精度。
XeMove:电子束光刻平台
紧凑的设计允许用作子阶段或更换阶段,只需要电气室馈通。所有组件都是高真空兼容且完全非铁磁的。紧凑的设计包括激光测量系统和压电驱动部件。轴上测量将偏航误差的影响降至更低。行程范围从55毫米到120毫米不等。
产地:美国
类型:电子束光刻平台
测量分辨率:10nm
行程范围:55mm到120mm
缝合精度:优于100nm
覆盖精度:优于100nm
激光视口:不需要
机械馈通:不需要
触点连接:ZIF
兼容:高真空
组件:非铁磁
部件驱动:压电
专注领域研究 产品供应
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