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产品介绍
易于使用的半自动化经济型工具系列，适用于尺寸（max）为 8“ x 8” 的基底，可在微米和纳米尺度上进行图案复制。EITRE 工具具有多种压印工艺能力和广泛的配置可能性，因此用途特别广泛。
性能特点
- EITRE 纳米压印光刻（NIL）工具提供了一种半自动、经济实惠的光刻解决方案，可以在微米和纳米范围内复制图案。
- EITRE 工具具有多种压印工艺能力和广泛的配置可能性，因此用途特别广泛。
- 易于使用的半自动工具，界面友好。
- 嵌入式 SoftPress 技术可确保对整个压印区域的残余层厚度进行控制，从而实现准确的图案转移和简单的下游工艺开发。
- 工具的灵活性允许使用多种压印工艺，如热压印、热NIL、UV NIL 和 Obducat 独特的同步热压和 UV (STU) 工艺。
- EITRE 工具适用于固态照明、微型光学和光子元件和生命科学设备、片上实验室、MEMS/NEMS 和半导体等应用领域的研究和开发。
- 全面积的压印。
- 紫外线模块可配置为 50-400 mW/cm2的基板级强度。
- 根据欧洲安全法规和 CE 标志设计。
技术参数
产地：瑞典
基底尺寸：≤ 78 mm Ø
压印压力（min）：6-8 bar（取决于 CA 的入口压力）
压印压力（max）：70 bar
压印温度（min）：环境温度
压印温度（max）：250°C（使用紫外模块时为 200°C）
压印温度设置：精度± 2 度
无尘室适用性：Class 100
室温：18-32°C
相对湿度：40 - 65%
电源：220-240 VAC，单相，接地，预熔丝至 16A，50/60 Hz，3 kVA
压缩空气：6 - 8 bar，30 l / min
排气流量：1000 - 2000 l / min
尺寸（长 x 宽 x 高）：80 x 60 x 180 厘米
重量：约250 千克
产品参数
津公网安备12010102000950号